株式会社クリエイティブコーティングス

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業務介紹

實現碳中和的關鍵技術之一的次世代電池、具有多種功能的納米級機能性粒子、隨著5G和6G通信系統和環保汽車的普及、先進駕駛輔助系統（ADAS）的技術提昇下、所需的具超小型化和高可靠性的被動元件，MLCC通過DX所實現的高品質醫療服務，以及正在推進人工智慧和數位化的醫療設備等，社會各個領域都對我們的塗佈技術寄予厚望。

液相技術

液相技術

提出材料、設備和流程的最佳實踐

我們提供MLCC/MLCI/壓敏電阻/熱敏等被動元件所需要的下一代介電質體片成型、內部電極製程、兩端子和多端子的外部電極塗佈，以及塗佈製程前後的製程技術、設備、治具和委託服務等。 世界上最小的尺寸從0201mm〜等，我們的專利技術和獨特的製程技術，將滿足客戶的要求。

兩端子和多端子外電極形成製程
生胚形成製程
被動元件用電鍍製程

氣相技術

氣相技術

我們將低溫鍍膜定位為本公司氣相技術的核心技術，並提供最適用於粉體與元件的鍍膜解決方案。

即使對於電池原材料和磁性材料等所用的各種粉末以及尖端元件的複雜表面形狀，都可以實現1nm~1μm的有機和無機（金屬，化合物，氧化物，氮化物）的精密鍍膜。可應用於氣體阻隔膜、耐腐蝕膜、導電膜、絕緣膜等各種其它鍍膜。

粉體低溫(室溫)ALD鍍膜製程
低溫(室溫)ALD鍍膜製程
低溫DLC硬薄膜製程

人工智慧×機器人技術

人工智慧×機器人技術

AI技術帶來的從「自動化」到「自主」的提議
我們支援通過液相・氣相技術×人工智慧尋找新材料和創新製程條件。

機器人可以評估最適當的物理特性・條件以及組成，這是一場可以充分利用物質合成和機器人技術的 「實驗室工業革命」。這帶來了偶然性（意想不到的發現）。

株式會社創意人工智慧機器人

※ 創意人工智慧機器人是我們公司的集團公司。

產品介紹

從液相到氣相，我們有各種各樣的產品來滿足客戶的需求。
除了我們在此介紹的之外，在許多情況下，我們可以根據客戶要求內容做出回應，
因此請隨時與我們聯繫。

液相設備

以創新的塗佈技術為首，我們致力於解決客戶的技術課題，實現前所未有的創新製造。
我們將材料、設備、製程、技術經驗與智慧財產五者合一，整合提供。

兩端子和多端子外電極形成製程

我們改進了傳統電極塗布方法的技術，並根據客戶的產品和材料廣泛應對
各種製程條件、治具、設備、開發支援和委託塗布。
我們重視晶片頂端的薄膜化與邊角的厚膜化。

兩端子

※請放大仔細檢查。

多端子

※請放大仔細檢查。

液相技術的介紹影片。

生胚形成製程

我們負責成型 MLCC 的介電層（生胚）。
設備可實現從薄膜放捲部、塗佈部開始的潔淨環境，並可in-line整合膜厚測量、缺陷檢查等功能。
透過材料廠商、設備與塗佈製程的最優化，我們可使用高品質粉漿料來備製介電層。

※拡大してご覧ください。

被動元件用電鍍製程

高整合度的設備設計，也可對應金電鍍。
系統由獨立的電鍍槽構成，每個電鍍槽配備兩套電鍍液供應系統。
無論是 MLCC 還是 MLCI，皆可對應從 0201mm（008004 英吋）到 3225mm（1210 英吋）的產品尺寸。

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氣相設備

我們提供符合時代與環境需求的次世代氣相技術。
徹底重新檢視了過去的氣相技術。
以用於半導體的低溫（室溫）ALD設備與粉體低溫（室溫）ALD鍍膜設備的「雙主軸技術」，為技術革新貢獻力量。

極低溫高密度等離子粉體ALD鍍膜製程

CMVA-500P

極低溫高密度等離子ALD裝置

【腔體尺寸】

  • □500mm

【特點】

  • 在真空中的極低溫高密度等離子ALD裝置
  • 實驗、開發目的之粉末處理用規格

【應用範例】

  • 粉體（全固態電池材料、介電材料、磁性材料等）
  • 量子點粉末

CMP-200

極低溫高密度等離子粉體ALD裝置

【腔體尺寸】

  • φ200mm

【特點】

  • 常壓下用於粉體的連續鍍膜
  • 實驗、開發目的處理用

【應用範例】

  • 粉體（全固態電池材料、介電材料、磁性材料等）
  • 量子點粉末

CMP-400

極低溫高密度等離子粉體ALD裝置

【腔體尺寸】

  • φ400mm

【特點】

  • 在常壓環境中利用旋轉氣流的粉體鍍膜

【應用範例】

  • 粉體（全固態電池材料、介電材料、磁性材料等）
  • 量子點粉末

極低溫高密度等離子粉體ALD鍍膜製程(高溫為選配)

CMVA-300

極低溫高密度等離子ALD裝置

【腔體尺寸】

  • □300mm

【特點】

  • 在極低溫（常溫～100℃）下進行成膜
    •  可對應耐熱性差的基板・裝置。
  • 遠端電漿與長壽命OH自由基的應用
    •  利用高密度電漿產生高反應性的OH自由基。
    透過OH自由基的長壽命與高氧化能力，可形成高品質的氧化膜。
  • 薄膜的均勻性與緻密性
    •  即使在微細結構或高縱橫比的孔洞內部，也能形成均勻且緻密的薄膜。

【應用範例】

  • 可於高縱橫比的TGV/TSV結構上進行鍍膜
  • 可對SAW濾波器、太陽能電池等電子元件進行成膜處理
  • 最適於R＆D用途（適用於8吋以下尺寸的基板）

CMVA-500

極低溫高密度等離子ALD裝置

【腔體尺寸】

  • □500mm

【特點】

  • 在極低溫（常溫～100℃）下進行成膜
    •  可對應耐熱性差的基板・裝置。
  • 遠端電漿與長壽命OH自由基的應用
    •  利用高密度電漿產生高反應性的OH自由基。
    透過OH自由基的長壽命與高氧化能力，可形成高品質的氧化膜。
  • 薄膜的均勻性與緻密性
    •  即使在微細結構或高縱橫比的孔洞內部，也能形成均勻且緻密的薄膜。

【應用範例】

  • 各類粉體材料（全固態電池材料、介電材料、磁性材料）
  • 可於高縱橫比的TGV/TSV結構上進行鍍膜
  • 可對SAW濾波器、太陽能電池等電子元件進行成膜處理

CMVA-1000

極低溫高密度等離子ALD裝置

【腔體尺寸】

  • □1000mm

【特點】

  • 在極低溫（常溫～100℃）下進行成膜
    •  可對應耐熱性差的基板・裝置。
  • 遠端電漿與長壽命OH自由基的應用
    •  利用高密度電漿產生高反應性的OH自由基。
    透過OH自由基的長壽命與高氧化能力，可形成高品質的氧化膜。
  • 薄膜的均勻性與緻密性
    •  即使在微細結構或高縱橫比的孔洞內部，也能形成均勻且緻密的薄膜。

【應用範例】

  • 可對應大面積
  • 可於高縱橫比的TGV/TSV結構上進行鍍膜
  • 可對SAW濾波器、太陽能電池等電子元件進行成膜處理
  • 從R＆D到生產皆可對應

低溫DLC硬薄膜製程

透過進行具有高硬度（耐磨耗性）、低摩擦係數（耐磨耗性）、耐腐蝕性、抗黏著性
及平滑性的DLC鍍膜，可延長半導體製造設備零件用模具、樹脂成型模具、滑動零件
及治具工具等的使用壽命。
不僅有助於降低客戶成本，亦能減少清潔作業等維護工時，實現業務改善。

由於為低溫處理，因此在不降低母材硬度與品質的情況下也能進行鍍膜，
且適用的母材材質不僅限於金屬，亦可用於橡膠製品（如O型環等）。

※請放大觀看。

DLC是「類鑽碳（Diamond-Like Carbon）」的縮寫，具有介於鑽石與石墨之間的特性，
能形成兼具良好滑動性與高硬度的薄膜塗布。

透過調整SP3（鑽石結構）與SP2（石墨結構）的比例，以及其中含有的H（氫）比例，
並採用多層鍍膜技術，可以製作出具備多種物理性質與特性（工業價值）的薄膜。

低溫DLC
(多層ta-C)

無氫DLC

與傳統ta-C相比，具有更佳的附著力

【效果】

  • 提升高硬度性與耐磨耗性
  • 抗黏著性的改善

【薄膜種類】

  • ta-C多層（底層為Cr/Cr-N）

【膜厚】

  • 1～2μm

【應力】

  • 50 GPa

【摩擦係數】

  • 0.08

【處理溫度】

  • 180℃

【用途】

  • 汽車驅動零件（齒輪、軸等）
  • 精密滑動零件（軸承等機械部件）

低溫DLC
(多層a-C:H)

含氫的Cr系材料

通過多層成膜提升耐荷重性

【效果】

  • 模具的長壽命化（脫模性提升＆耐磨耗性提升）
  • 透過減少模具汙染，實現自動運轉並縮短清潔作業時間

【薄膜種類】

  • CrN(多層)、TiN、TiAIN(多層)

【膜厚】

  • 薄膜0.2～厚膜8μm

【應力】

  • 20 GPa

【摩擦係數】

  • 0.29～0.45

【處理溫度】

  • 低溫180℃、高溫300℃

【用途】

  • 樹脂成型模具、橡膠成型模具
  • 高精度光學鏡片成型模具
  • 半導體模塑模具、精密模具、治具

低溫DLC
(多層CrN/TiAIN)

含氫的Ti系材料

通過多層成膜提升耐衝擊性

【效果】

  • 提升耐荷重性與耐衝擊性
  • 高附著力使薄膜不脫落，提升了零件的壽命

【膜種】

  • CrN/TiAIN多層

【膜厚】

  • 3μm

【應力】

  • 25 GPa

【摩擦係數】

  • 0.38

【處理溫度】

  • 250℃

【用途】

  • 冷鍛模具、塑膠成型模具
  • 鋼材加工用沖床與模具
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技術概要

作為一家克服困難滿足客戶需求的技術公司，我們將通過我們獨創的鍍膜技術為SDGs做出貢獻。

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新しいNeedsから知恵と技術力でSeedsを育てる創造の木

公司簡介

公司名稱
芯烯科技有限公司
Creative Coatings Co., Ltd.
董事
代表取締役社長 CEO／佐藤 英兒
資金
98,000,000円
成立
2017年8月21日
業務內容
【液相和氣相技術業務】
鍍膜製程開發
鍍膜設備開發・製造・銷售
鍍膜材料開發・製造・銷售
鍍膜產品開發支援
鍍膜研究開發支援
鍍膜委託試作，委託量產
【人工智慧×機器人】
配備液相和氣相技術的人工智慧自主設備
使用人工智慧探索新材料
使用人工智慧搜索最佳的製程條件
主要交易行業
電子部品、能源、
醫療設備、化學品、材料
國內外主要製造商120家
監事事務所
QPDT Global税理士法人
法律顧問
第一律師事務所
交易银行
瑞穗银行
三菱UFJ銀行
日本政策金融公社
本社住址
【本社研究所】
〒113-0023　東京都文京區向丘2丁目28番12號
　電話：+81-3-5946-8295　 傳真： +81-3-5946-8296
研究開發中心
【綜合研究所】
〒940-2128　新瀉縣長岡市新產東町 38 　
　電話：+81-258-89-8608　 傳真：+81258-89-8609

訪問路徑

本社研究所

〒113-0023　東京都文京區向丘2丁目28番12號
電話：+81-3-5946-8295　 傳真：+81-3-5946-8296

◆ 從東京大學開車2分鐘
◆ 東京地鐵南北線 本駒込站 步行4分鐘
◆ 都營三田線 白山站 步行7分鐘

本社外観

綜合研究所/新產工廠

〒940-2128　新瀉縣長岡市新產東町 38 　
電話：+81-258-89-8608　 傳真：+81-258-89-8609

◆ 從長岡技術科學大學開車5分鐘
◆ 新幹線・電車・巴士/從JR長岡站大手口開車約15分鐘
◆ 關越高速公路/從長岡IC開車約5分鐘

総合研究所外観

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