气相技术 | 株式會社Creative coatings

GAS PHASE氣相技術

氣相技術

Gas Phase

在真空或大氣壓環境之下皆可推薦最佳的解決方案!

不論是有機或無機物(金屬,化合物,氧化物,氮化物等)都可以鍍膜!可以形成膜厚1nm~10μm的高品質及高緻密性的鍍膜!

Previous Cases技術加工範例

工件材料和薄膜鍵入您的是你的考慮,從膜厚,我們將提出最佳的處理實例。創意塗料的氣相技術是,"新材料和新材料","能量",如樹脂的原料和燃料電池,"醫療保健",如醫療Kigu和設備",移動端如電子零件和新的顯示如","可穿戴式設備","汽車"已在各種領域中被使用。必要需求和解決問題的技術,客戶在這裡。

靶材

有機物

客戶的要求

"我要塗覆上樹脂"

也弱材料在高溫下可以是在低溫下的膜

無機

客戶的要求

"玻璃,要塗覆的陶瓷,所述金屬"

可以是薄膜粘附性是均勻的

樹脂容器

客戶的要求

"我想裝飾樹脂容器"

希望的色調,可在觸摸之間施加

電影玻璃

客戶的要求

"我希望有一個功能了膜的玻璃"

可以授予廣泛的功能,例如抗紫外線和絕緣性

客戶的要求

"我想塗層粉末。"

有可能通過用各種粒徑的形成膜,以粉末,以減少成本和功能向上

電影類

金屬膜

客戶的要求

"我希望把金屬膜"

具有高純度的金屬材料也可以是一個良好的膜粘合,同時保持高純度

合金薄膜

客戶的要求

"我希望把合金膜"

請求的組合物,是一種膜可以被形成為匹配晶體類型

氧化膜

客戶的要求

"我希望把氧化膜"

反射和遮光,可以是透明電極,形成如各種參與產品

膜厚度

為1nm(納米)

客戶的要求

"我希望把納米級的薄膜。"

緻密均勻,並允許均勻的超薄薄膜形成

超細顆粒

客戶的要求

"10㎚要添加以下薄膜"

10㎚是均勻的粉末,並使得均勻的塗層

〜1000nm的

客戶的要求

"我希望把100nm的薄膜〜1000nm的"

相對於所述請求的膜厚度可以是膜

Technology system技術系統

DEPOSITION

汽相沉積法

主題目錄
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CVD

CVD法

ALD

ALD系統

主題目錄
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SPUTTERING

濺射法

Coating apparatus的塗佈設備

我會建議是不是最好的技術和塗佈方法,您的要求,我們將提供高品質的電影

ALD裝置/
CMVA系列

它使在低溫下,這被認為是在ALD難以高品質的成膜!

主題目錄
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桶型ALD裝置/
CMVB系列

的ALD設備的融合和筒機構

主題目錄
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鼓泡CVD裝置/
CMB系列

液體→氣體
  • 在低溫下,也可以是低成本和高品質的膜沉積
  • 對應於幾乎所有的金屬氧化物膜的
沉積規格
  • 膜形成溫度<300℃
  • 薄膜澱積速率> 100nm的/分鐘
應用實例
  • 保護膜,絕緣膜,光學膜

IBAD(離子輔助沉積)
設備/ CMVI系列

通過IBAD膜形成例委託

除了現有技術中的真空蒸鍍法,通過乘以離子注入方法是一種複雜的技術,其協同效應,可以預期具有兩個公司。在室溫下使低能量的照射,提高透明導電膜(ZnO)的或形成觸摸面板耐火金屬電極的粘附性。

Unit單位

等離子源

您所選擇的離子,自由基供給

納米氣泡發生磁盤

清洗效果 對應於複雜的形狀和造型精美,而無需使用特殊化學品
消毒,淨化效果 高濃度氧氣源極/臭氧源
分離,分散效果 通過均勻微細粒徑均勻地分散

Deposition Contract沉積合同服務

它將在各種施工方法加以解決
[幹]真空蒸鍍機濺射·CVD
[濕]噴霧塗佈機,浸漬

通過ALD形成膜例委託

沉積規格

工作:晶片,金屬(SUS,鋁,銅等),樹脂,其它的膜
大小:如果對一個側面百毫米形狀並不重要

自適應膜

的SiO 2,Al₂O₃,TiO 2的,HfO₂等。

膜厚度

100〜1000nm的